Eine fehlerfreie Maske ist entscheidend für eine hohe Produktivität in Fotolithografieanwendungen. Defekte und Verunreinigungen führen zu falsch abgebildeten Strukturen, die auf Produktionssubstraten ständig reproduziert werden. Maskeninspektionssysteme helfen Maskenherstellern, ihre Fotomasken zu qualifizieren, und Fabs, ihre Ausbeute zu sichern, indem sie das Risiko einer fehlerhaften Belichtung von Wafern und anderen Substraten verringern. Chiphersteller und Produzenten von Flat Panel Displays (FPD) oder Leiterplatten stützen sich auf diese Systeme, um die Qualität eingehender Masken zu bewerten und diese auch während der Produktion regelmäßig neu zu überprüfen.
So vielfältig die Fotolithografie ist, so verschieden sind auch die Masken. Unser Fokus liegt auf Inspektionssystemen, die Defekte und Verunreinigungen auf großen Masken mit nah ultraviolettem (NUV), sichtbarem (VIS) und nah infrarotem (NIR) Licht erkennen. In diesen Anlagen ersetzen unsere leistungsstarken und flexiblen LED-Lösungen die herkömmlichen Quecksilber- und Xenon-Dampflampen.
Während andere LED-Belichtungslösungen ein schmalbandiges Inspektionslicht liefern (zum Beispiel bei 385±15 nm), bieten unsere innovativen LED-Systeme ein breitbandiges, individuell anpassbares Ausgangsspektrum. Zusätzlich zu den zentralen Wellenlängen der i-, h- und g-Linie (365 / 405 / 436 nm) herkömmlicher Entladungslampen lässt sich der Spektralbereich auch um VIS-Komponenten wie Blau und Grün erweitern.
Mit unserer Advanced Light Engine ONE können Sie bis zu fünf leistungsstarke, individuell feedback-gesteuerte LEDs in einem einzigen optischen Pfad kombinieren. Darüber hinaus sind auf der Grundlage unserer lichtleitergekoppelten UV-LED-Lichtquelle ALE/3 kosteneffiziente Belichtungssysteme mit einer oder zwei Peakwellenlängen erhältlich.
Ausgangsleistung [mW]1 | Breitband (350 - 450 nm) | i-Linie (355 - 385 nm) |
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ALE/1.3 (CWL 365 / 405 / 436 nm)2 | 30.000 | 10.000 |
ALE/3.2 (CWL 365 / 405 nm)2 | 13.000 | 6.500 |
200 W Quecksilberdampflampe (typische Werte) | 7.500 | 3.000 |
1Ausgangsleistung gemessen am Lichtleiterende (aktiver Kern Ø 6,5 mm, Länge 1,5 m); Abweichungen von ±10% möglich
2Emitter CWL: 367,5±2,5 nm, 402,5±2,5 nm und 435,0±2.5 nm
Mit maßgeschneiderten, breitbandigen Spektren und hervorragender Belichtungsstabilität setzen die UV-LED-Punktlichtquellen ALE/1 neue Maßstäbe.
Hier kommt Ihr wirtschaftlicher und platzsparender Ersatz für alte Lampensysteme in der Maskeninspektion: Unsere UV-LED-Lichtquelle ALE/3.
Erfahren Sie mehr darüber, wie unsere LED-Lichtleiter mit hoher Transmission Ihren Prozess zur Inspektion von Fotomasken leistungsfähiger machen.