Breitband-Wafer Stepper, auch bekannt als 1X-Stepper und Mini-Stepper, sind für Advanced Packaging-Anwendungen wie Fan-Out Wafer-Level Packaging (FOWLP), Wafer-Level Chip-Scale Packaging (WLCSP) und Through-Silicon Via (TSV) unerlässlich. Mit diesen hochspezialisierten Step-and-Repeat-Lithografiesystemen werden komplexe Mikrostrukturen wie MEMS und Verbindungshalbleiter hergestellt.
Unsere breitbandigen UV-LED-Lichtquellen ALE/1 und ALE/1C sind die perfekte Lösung, wenn Sie Ihren Stepper auf UV-LED-Belichtung umrüsten möchten. Sie bieten Ihnen volle Flexibilität bei der Auswahl fotosensitiver Advanced Packaging-Materialien, die Sie möglicherweise in Ihrem Prozess verwenden müssen.
Dabei profitieren Sie von einem einzigartigen Aufbau: Die Kombination einzelner LED-Module im Bereich der i-, h- und g-Linie in einem optischen Pfad gibt Ihnen die volle Kontrolle über die spektrale Zusammensetzung Ihrer Breitbandbelichtung im Bereich von 350 - 450 nm. Dank der hohen Strahlungsleistung können Sie jede herkömmliche Quecksilberdampflampe mit einer Nennleistung von bis zu 1.000 W – oder sogar darüber hinaus – ersetzen. Schluss mit Stillstandszeiten beim Lampenwechsel und dem lästigen Entsorgen von Quecksilberabfällen. Mit unserer UV-LED-Technologie, die in Ihr Litho-Tool integriert ist, gehört all das der Vergangenheit an.
Unsere Systeme bewähren sich tagtäglich in unzähligen Szenarien der Halbleiterfertigung. Durch den Einsatz unserer leistungsstarken UV-LED-Illuminatoren in einem Wafer Stepper lassen sich Auflösungen von bis zu 1 µm oder sogar im Submikronbereich erreichen. Und das Beste: Dank der ausgezeichneten Leistungsstabilität und Zuverlässigkeit können Sie den Systemdurchsatz (WPH) steigern und gleichzeitig die Betriebskosten senken.
Unsere UV-LED-Belichtungslösungen ersetzen das herkömmliche Lampenhaus. Sie benötigen keinen primären Umlenkspiegel, keinen Kühlkörper zur Absorption der Strahlung über 450 nm, keinen Shutter und keine Filter. In vielen Fällen sind unsere LED Performance Optiken auch eine kostengünstige Alternative für herkömmliche Homogenisierungs- und Kondensorkomponenten. Der Umstieg von Quecksilberdampflampen auf unsere UV-LED-Technologie kann auf verschiedene Weise erfolgen:
Wir können beide Lösungen individuell an Ihre Anlage anpassen. Auch eine Nachrüstung Ihres bestehenden Systems ist möglich.
Viele Fotolithografieanwendungen sind auf eine breitbandige Belichtung angewiesen, die die i-, h- und g-Linie (CWL 365 / 405 / 436 nm) umfasst. Unsere UV-LED-Belichtungssysteme bieten eine sehr ähnliche spektrale Leistung wie Quecksilberdampflampen, so dass die Umstellung Ihres Lithografieprozesses auf UV-LED-Belichtung nur minimale Anpassungen erfordert. Es sind auch Systeme mit zwei zentralen Wellenlängen (365 / 405 nm oder 405 / 436 nm) erhältlich.
Ausgangsleistung [mW] | Breitband (350 - 450 nm) | i-Linie (355 - 385 nm) |
---|---|---|
ALE/1 | 30.000 | 10.000 |
ALE/1C1 | 40.000 | 17.000 |
Quecksilberdampflampe (typische Werte) | ||
500 W | 25.000 | 12.000 |
1.000 W | 50.000 | 25.000 |
1Standard-Mode; Performance-Mode mit Chiller liefert zusätzliche 20% Leistung
Die Schaltzeiten unserer UV-LED-Belichtungslösungen (0 bis 100%) beträgt weniger als 1 Millisekunde. Eine interne Closed-Loop Feedback-Regelung hält die Dosis sowohl bei kurzen als auch bei längeren Belichtungszyklen konstant. Mit diesen Merkmalen wird eine Genauigkeit von ±0,2 % für kurze 50-Millisekunden-Belichtungen erreicht, wobei nichts weiter als ein Timer erforderlich ist. Die Genauigkeit erhöht sich natürlich noch bei längeren Belichtungszyklen.
Unsere ALE/1 ist der Benchmark unter den lichtleiterbasierten UV-LED-Punktlichtquellen, wenn es um zuverlässige Leistung und ein anpassbares, breitbandiges Belichtungsspektrum geht.
Mit unserem industrieerprobten UV-LED-Belichtungssystem ALE/1C erreichen Sie Auflösungen bis zu 1 µm – oder sogar im Submikrometerbereich.