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2022-11-02
ALE/2: Neues UV-LED-Belichtungssystem für große Substrate
- Frederic
- 6. Mai 2020
- 9:25
Das Primelite-Entwicklungsteam hat die Entwicklung der neuesten Ergänzung unseres Portfolios an UV-LED Lichtquellen - der ALE/2 - erfolgreich abgeschlossen.
Dieses System soll herkömmliche Quecksilberdampflampen im Bereich von 3 bis 5 kW ersetzen. Ähnlich wie bei der ALE/1C handelt es sich bei der ALE/2 um ein dezentral angeordnetes UV-LED Belichtungssystem, das direkt in fotolithografische Anlagen (z.B. Mask-Aligner) integriert wird.
Die ALE/2 verfügt über mehrere LED-Arrays, die eine intensive kollimierte Belichtung ermöglichen. Selbst auf großen Substraten wie Ø200 mm (8" Wafer), Ø300 mm (12" Wafer), 200 mm X 200 mm oder 300 mm X 300 mm können Intensitäten von über 100 mW/cm2 erreicht werden. Monospektrale (CWL 365 nm, nur i-Linie) oder multispektrale breitbandige (CWL 365 / 405 / 436 nm, i- / h- / g-Linie) Strahlerkonfigurationen sind verfügbar.
Weitere Informationen zu diesem leistungsfähigen UV-LED-Belichtungssystem werden in Kürze veröffentlicht.
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