半导体和 PCB 的 UV-LED 光刻技术

淘汰传统的汞放电灯、采用紫外线 LED 技术

关于光刻应用的先进的 UV-LED 曝光系统

半导体和 PCB 制造商使用近紫外(NUV)光谱范围内的高功率辐射(i-line、CWL 365 nm / h-line、CWL 405 nm / g-line、CWL 436 nm)、在光刻工艺中创建复杂的微结构。这有助于生产从坚固的集成电路(IC)、功率器件、复合半导体(LED、激光二极管、光伏电池)、微机电系统和微流体系到三维和先进的包装

几十年来、唯一的选择是使用汞放电灯的宽带紫外线曝光设备。紫外光 LED 的最新进展改变了这种情况。这种技术比传统灯管更安全、更实惠、更可靠。而且、如果你想改造传统的紫外线曝光生产工具或设计新的工具、我们有一个方便的选择:只需将 Primelite 的高级 UV-LED 光引擎作为一个子系统集成。

UV-LED 掩膜对准器

配备我们的 UV-LED 光引擎的掩膜对准器为近距离和接触(软/硬/真空)曝光的使用情况提供卓越的结果。

UV-LED 晶圆步进器

通过将 Primelite UV-LED 曝光系统集成到步进器、您的目标分辨率可以降至1微米甚至是亚微米的范围。

UV-LED 直接成像

HVM 环境中的 DMD / DLP® 投影系统需要高性能的UV光源。我们提供市场上能力最强的 UV LED DMD 照明器。

UV-LED 晶圆边缘曝光

作为晶圆边缘曝光的首选解决方案、Primelite 的 UV-LED 点光源与汞弧灯的i-、 h-、 和 g-line 输出完美的匹配。

UV-LED 准直曝光

传统的泛光曝光灯正在被淘汰。有了我们的宽频 UV-LED 光源、系统就会更安全、更实惠、更可靠。

UV-LED 光罩检测

让您的光罩检测设备告别汞弧灯、向我们的纤维耦合紫外光 LED 曝光系统问好吧。

您准备好接受 UV-LED 的照射了吗?