关于光刻应用的先进的 UV-LED 曝光系统
半导体和 PCB 制造商使用近紫外（NUV）光谱范围内的高功率辐射（i-line、CWL 365 nm／h-line、CWL 405 nm／g-line、CWL 436 nm），在光刻工艺中创建复杂的微结构。这有助于生产从坚固的集成电路（IC）、功率器件、复合半导体（LED、激光二极管、光伏电池）、微机电系统和微流体系，到三维和先进的包装。
几十年来，唯一的选择是使用汞放电灯的宽带紫外线曝光设备。紫外光 LED 的最新进展改变了这种情况。这种技术比传统灯管更安全、更实惠、更可靠。而且，如果你想改造传统的紫外线曝光生产工具或设计新的工具，我们有一个方便的选择：只需将 Primelite 的高级 UV-LED 光引擎作为一个子系统集成。