UV-LED 驱动的直接成像

充分利用您的 DMD 投影系统进行大批量制造

用我们的 DLP® / DMD UV-LED 照明器提高数字光刻技术的产量

直接成像设备、无掩模对准器和其他无掩模光刻工具在行业中越来越受欢迎。3D 和计算机屏幕(CtS)打印也是如此。所有无掩模曝光系统都依赖于数字镜面设备(DMD)、例如 Texas Instruments 的 DLP® 芯片组。TI 开发了 DLP® 技术来创建最先进的数字电影放映系统。在工业用例中、这些高分辨率光学 MEMS 取代了传统的掩模、用于曝光具有紫外线敏感涂层、树脂或抗蚀剂的基板上的结构。DMD 可以为您的工艺带来更大灵活性的好处:为什么不抛弃物理光掩模并通过即时、动态可控的曝光模式转换来彻底改造您的光刻或印刷?

在大批量制造中、DMD 投影系统需要强大的 UV 光源才能实现足够的吞吐量。汞放电灯长期以来一直是首选的照明技术、但现在有些灯已被使用寿命更长的激光二极管所取代。这些激光二极管有一个很大的缺点:与放电灯不同、它们几乎是单色的(例如、只有 405 nm)、通常会产生不太理想的曝光结果。

UV-LED 技术的最新进展催生了覆盖传统汞弧放电灯光谱范围的高性能发射器。将这些发射器组合在 UV-LED DMD 照明器中有其优势。该组合工具可提供高强度多色光输出并降低总拥有成本。Primelite 代理的产品 LumiDL™、是基于 LED 技术的最强大的 DMD 照明器之一。

将 LumiDL™ UV-LED DMD 照明器集成到您的直接成像工具中

LumiDL™ 是市场上最强大的 DMD 照明器之一。它的紫外线辐射输出非常高、以至于照明器的 LED 模块需要复杂的液体冷却、DLP® 芯片组也是如此。

使用 LumiDL™ UV-LED 照明器的 DMD 投影系统通常是由一个 TIR 棱镜、一个合适的 DLP® 芯片组和一个投影镜头组成的光学装置。虽然 3D 和 CtS 打印设置通常使用一个曝光单元、但 HVM 直接成像工具将几个照明器并行起来、以提高产量。

Primelite UV-LED 集成直接成像
使用 LumiDL™ UV-LED DMD 照明器的无掩模直接成像装置
Primelite UV-LED DMD 照明器:光谱功率 CWL 365、385、405
LumiDL™ UV-LED DMD 照明器:光谱功率(CWL 365 / 385 / 405 nm)

宽带 DMD 照明

LumiDL™ UV-LED DMD 照明器可以微调到给定曝光过程所需的任何波长组成。

用于 3D 打印的树脂在 385 或 405 nm 曝光时表现最佳。考虑到这一点、使用高功率单光谱 DMD 照明器配置对基于 DLP® 的 3D 打印机非常有意义。

无掩模光刻应用的情况则不同:许多抗蚀剂起源于放电灯时代,固化效果得益于强宽带辐射。这就是 LumiDL™ DMD 照明器可与 365、385、405 和 436 nm 发射器的任意组合一起使用的原因

LumiDL™ UV-LED DMD 照明器可为 DLP® 芯片组提供高达 40 W 的总光功率。

UV-LED DLP / DMD 照明器
UV-LED DLP® / DMD 照明器 LumiDL™

为什么 LumiDL™ DMD 照明器用于直接成像:

适用于 DLP®9500 的
UV-LED DMD 照明器 LumiDL™

LumiDL™ DLP®7000 UV-LED 照明器易于集成、功能异常强大且维修方便、是 DLP®7000 芯片组单光谱和多光谱照明的首选解决方案。

适用于 DLP®9500 的
UV-LED DMD 照明器 LumiDL™

LumiDL™ DLP®9500 UV-LED 照明器易于集成、功能异常强大且维修方便、是 DLP®9500 芯片组单光谱和多光谱照明的首选解决方案。

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