直接成像设备、无掩模对准器以及其他无掩模光刻工具在行业中越来越受欢迎。3D 和计算机屏幕(CtS)打印也是如此。所有无掩模曝光系统都依赖于数字微镜设备(DMD),例如 Texas Instruments 的 DLP® 芯片组。TI 开发了 DLP® 技术,用于创建最先进的数字电影放映系统。在工业应用中,这些高分辨率光学 MEMS 取代了传统掩模,用于曝光紫外线敏感涂层、树脂或抗蚀剂的基板。DMD 可为您的工艺带来更大的灵活性:为什么不抛弃物理光掩模,通过即时、动态可控的曝光模式转换彻底改造您的光刻或印刷?
在大批量制造中,DMD 投影系统需要强大的 UV 光源以实现足够的吞吐量。汞放电灯长期以来一直是首选的照明技术,但现在部分灯已被使用寿命更长的激光二极管取代。这些激光二极管存在一个显著缺点:与放电灯不同,它们几乎是单色的(例如,只有 405 nm),通常会导致曝光结果不尽如人意。
UV-LED 技术的最新进展催生了覆盖传统汞弧放电灯光谱范围的高性能发射器。将这些发射器组合在 UV-LED DMD 照明器中具有诸多优势:该组合工具可提供高强度多色光输出,同时降低总拥有成本。Primelite 代理的产品 LumiDL™ 是基于 LED 技术的最强大的 DMD 照明器之一。

