UV-LED 掩膜对准器

淘汰传统的汞放电灯、采用 UV-LED 技术用于掩模对准器

与 Primelite 合作推动 UV-LED 集成到高端生产型掩膜对准器中

掩膜对准系统在 MEMS、化合物半导体、功率器件和微流体的后端光刻技术中占有突出地位。理由很充分:利用 先进的封装技术、如晶圆级芯片及封装(WLCSP)、扇出式晶圆级封装(FOWLP)、倒装芯片封装、3D-IC /硅通孔(TSV)、凸块和2.5D夹层等、越来越多的集成微结构的生产变得非常容易。

手动、半自动和全自动光罩对准器随处可见、从小批量的研发装置到大批量的生产线、Primelite 的 UV-LED 光刻曝光系统(ALE/1ALE/1CALE/2)完全符合任何制造方案的要求、并已被集成到各种掩膜对准器中、以取代宽带应用中的小型(200 W、350 W、500 W)和中型(750 W、1,000 W、 1,500 W)汞弧灯。在纯 i-line 工艺中、我们的 UV-LED 曝光系统与额定功率高达 5,000 W 的传统放电灯的性能相当。

使用我们的 UV-LED 光引擎的掩膜对准器在接触(软/硬/真空)和近距离曝光的情况下产生了卓越的效果、它们在4英寸、6英寸、8英寸、12英寸甚至更大的基板上提供了卓越的均匀性,出色的准直特性(<2°)以及低质 0.7 微米的高分辨率。更少的整体维护、更长的 LED 使用寿命、更强的输出稳定性、无需等到曝光工具预热和冷却 – 我们的 UV-LED 解决方案降低了拥有成本、同时提供卓越的生产性能。

将我们的 UV-LED 曝光系统整合到掩膜对准器中

我们的 UV-LED 曝光解决方案取代了传统的灯房。您不再需要主光束折叠镜、吸收 450 nm 以上辐射的散热器、快门和过滤器。在许多情况下、我们的 LED 性能光学器件 也是传统的均质/冷凝组件的经济替代品/你可以通过集中方式从汞弧灯升级到我们的紫外 LED 技术:

  1. 如果您的设计范围具有挑战性、请务必查看我们的一体式光纤耦合 UV-LED 光源 ALE/1 具有一个灵活的高透光率 LED 导光板。
  2. 我们的高功率 UV-LED 曝光系统 ALE/1C 采用了分布式设计。控制子系(CSS)和小尺寸的曝光子系统(ESS)是独立的组件。ESS 直接集成到掩膜对准器中。
  3. 您可以通过我们的 UV-LED 光引擎实现 i-line 和宽带的极端强度、使用我们的 UV-LED 光引擎 ALE/2 并对超大型基材进行曝光。这也是一张分布式设置、曝光子系统(ESS)将安装在曝光工具中。

所有的解决方案都是可定制的、以便与您的面具对准器完美配合。改装– 即替换传统工具中的传统灯房–也是一种选择。

Primelite UV-LED 曝光系统 ALE ONE C:光谱功率 CWL 365、405、436
Primelite UV-LED 曝光系统 ALE ONE C:光谱功率 (CWL 365 / 405 / 436 nm)

全功率宽带

我们的 UV-LED 曝光系统提供与汞放电灯类似的光谱输出、因此将您的光刻工艺升级到 UV-LED 曝光只需要最小的调整。我们的宽带 UV-LED 曝光装置不是您的唯一选择:我们还提供 i-line(365 nm)配置和双峰值波长的设置(365 / 405 nm)。

曝光强度的比较

晶片尺寸6"8"12"
辐射度 [mW/cm2]宽带i-line宽带i-line宽带i-line
ALE/11
90375022
ALE/1C1,3
120507030
ALE/22,3
1301305050
汞放电灯(典型值)
  350 W50252512
  500 W75373517
  1,000 W150757035
  5,000 W225013010050

1直径 150 毫米起的圆形曝光区
2方形曝光区、开始为 200 X 200 毫米
3标准模式、带有冷却器的性能模式提供额外的 20% 的输出

Primelite 光刻 先进的UV-LED 曝光系统 引擎 ONE C
Primelite 光刻 UV-LED 曝光系统 ALE/1C (控制器和曝光子系统)

为什么 Primelite 的 UV-LED 曝光系统用于掩膜对准器

Advanced Light Engine
ONE

如果您需要可靠的输出和可定制的宽带曝光光谱、我们的 ALE/1 是基准的光纤耦合 UV-LED 聚光光源

Advanced Light Engine
ONE C

配备我们的 UV-LED 光引擎的掩模对准器可为接触和接近曝光用例提供卓越的结果。

Advanced Light Engine
TWO

使用我们的 i-line 或宽带 ALE/2 UV-LED 光引擎配置、在圆形和方形8英寸和12英寸基板上以 100 mW/cm2 及以上的功率进行曝光

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