使用我们的 UV-LED 光源、提高光掩模和掩模版检测的灵活性和准确性
完美无瑕的掩模版或光掩模对于在光刻应用中实现高产量至关重要。缺陷和污染会导致图案放置错误、这些错误会在生产基板上重复出现。掩模版检查系统可帮助掩模厂检验其光掩模、并帮助晶圆厂通过降低印刷缺陷晶圆和其他基板的风险来保护产量。芯片制造商、平板显示器（FPD）和 PCB 制造商依靠这些系统来评估传入的光罩质量、并在生产期间定期重新鉴定光罩。
光刻的用途非常广泛、标线的种类繁多、数不胜数。Primelite 专注于使用近紫外（NUV）、可见光（VIS）和近红外（NIR）光识别大型光掩模上的缺陷和污染的检测工具。我们的 LED 解决方案功能强大且灵活、可取代这些应用中的传统汞和氙气放电灯。
将我们的 LED 光源集成到光掩模检测工具中
智能手机、平板电脑等对高分辨率平板显示器的需求很大。通过将我们强大的 LED 技术集成到用于大型光掩模的光罩检测工具中、OEM 可以更好地满足这一需求。Primelite 的高性能 LED 系统的优点很有说服力、选择我们的解决方案有三个很好的理由：
- Primelite 的光纤耦合高级光引擎 ALE/1 和 ALE/3 非常灵活。我们的高透射率 LED 光导让您几乎可以随心所欲地在机器中移动和定位光源。在一些现有装置中、这些光导长达 20 米。
- 先进的 OLED FPD 带有更多的 TFT 晶体管、以实现更好的分辨率。这就是高端光掩模必须能够生产更小特征尺寸的原因。要正确检查这些标线、您的设置必须对缺陷更加敏感。将辐射波长从 VIS 转移到近 UV 可增强您的设备检测缺陷的能力。Primelite 的高级 LED 光引擎在 350 至 450 nm 的光谱范围内提供卓越的性能。
- 我们的 LED 曝光解决方案卓越的输出稳定性（短期和长期）增加了光罩检测结果的准确性和一致性。
输出性能比较
| 输出功率 [mW]1 | 宽带 (350 - 450 nm) | i-line (355 - 385 nm) |
|---|---|---|
| ALE/1.3 (CWL 365 / 405 / 436 nm)2 | 30,000 | 10,000 |
| ALE/3.2 (CWL 365 / 405 nm)2 | 13,000 | 6,500 |
| 200 W 汞放电灯（典型值） | 7,500 | 3,000 |
1在光导末端测量的功率输出（有源芯直径 6.5 mm、长度 1.5 m）；偏差可能为 ±10%
2发射器的 CWL：367.5±2.5 nm、402.5±2.5 nm 和 435.0±2.5 nm
为什么 ALE/1 和 ALE/3 用于光掩模检测：
- 柔性光纤耦合 LED 瞄准光源
- 稳定、精准、一致、高强度辐射输出
- 完全可控的宽带近紫外和可见光辐射光谱
- UV-LED 技术可延长使用寿命并降低 TCO
- 切换速度小于 1 毫秒
