完美无瑕的掩模版或光掩模对于在光刻应用中实现高产量至关重要。缺陷和污染会导致图案放置错误、这些错误会在生产基板上重复出现。掩模版检查系统可帮助掩模厂检验其光掩模、并帮助晶圆厂通过降低印刷缺陷晶圆和其他基板的风险来保护产量。芯片制造商、平板显示器(FPD)和 PCB 制造商依靠这些系统来评估传入的光罩质量、并在生产期间定期重新鉴定光罩。
光刻的用途非常广泛、标线的种类繁多、数不胜数。Primelite 专注于使用近紫外(NUV)、可见光(VIS)和近红外(NIR)光识别大型光掩模上的缺陷和污染的检测工具。我们的 LED 解决方案功能强大且灵活、可取代这些应用中的传统汞和氙气放电灯。
输出功率 [mW]1 | 宽带 (350 - 450 nm) | i-line (355 - 385 nm) |
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ALE/1.3 (CWL 365 / 405 / 436 nm)2 | 30,000 | 10,000 |
ALE/3.2 (CWL 365 / 405 nm)2 | 13,000 | 6,500 |
200 W 汞放电灯(典型值) | 7,500 | 3,000 |
1在光导末端测量的功率输出(有源芯直径 6.5 mm、长度 1.5 m);偏差可能为 ±10%
2发射器的 CWL:367.5±2.5 nm、402.5±2.5 nm 和 435.0±2.5 nm