索我们用于近紫外(NUV)光谱范围(i-line、CWL 365 nm / h-line、CWL 405 nm / g-line、CWL 436 nm)的高性能 UV-LED 光刻曝光系统和精密固化解决方案。我们的产品在适用于最大 12 英寸(300 毫米)晶圆的掩模对准器、晶圆步进器、大型基板泛光曝光设备、纳米压印光刻(NIL)工具以及用于 DMD / DLP® 投影的高功率无掩模直接成像器中表现出色.
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