UV-LED 光刻曝光系统

输出功率水平可与高达 5 kW 的汞弧灯媲美

Primelite 用于光刻用例的高级 UV-LED 光源探

索我们用于近紫外(NUV)光谱范围(i-line、CWL 365 nm / h-line、CWL 405 nm / g-line、CWL 436 nm)的高性能 UV-LED 光刻曝光系统和精密固化解决方案。我们的产品在适用于最大 12 英寸(300 毫米)晶圆的掩模对准器、晶圆步进器、大型基板泛光曝光设备、纳米压印光刻(NIL)工具以及用于 DMD / DLP® 投影的高功率无掩模直接成像器中表现出色.

Primelite 的高级 UV-LED 光引擎是您在小批量和大批量制造环境中首选的可靠工具。如果您正在寻找设计新的曝光系统或改造传统汞放电灯的替代品、请不要再犹豫了。让我们经过行业验证的 UV-LED 光源提供您需要的照明。

Advanced Light Engine
ONE C

Primelite 光刻 先进的UV-LED 曝光系统 引擎 ONE C

配备我们的 UV-LED 光引擎的掩模对准器可为接触和接近曝光用例提供卓越的结果。

Advanced Light Engine
TWO

使用 i-line 或宽带 ALE/2 UV-LED 光引擎配置、以 100 mW/cm2 及以上的功率在圆形和方形 8 英寸和 12 英寸基板上曝光。

UV-LED
DLP® / DMD Illuminator

HVM 环境中的 DMD / DLP® 投影系统需要高性能 UV 光源。我们提供功能最强大的 UV-LED DMD 照明器。

抛开灯管、采用 LED 技术!